基本型等離子清洗機是一種全新的高科技技術(shù),利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實現(xiàn)清潔等目的。
基本型等離子清洗機是一款為工業(yè)級客戶和研發(fā)型客戶使用需求設(shè)計的寬泛使用等離子表面處理設(shè)備,適用于等離子清洗,活化以及刻蝕等多種應(yīng)用,設(shè)備可在嚴苛環(huán)境下穩(wěn)定運行,獲得高度均一的使用效果。基本型等離子清洗機是一種緊湊的、廉價的桌面型等離子儀器,帶有鉸鏈門、觀察窗和精細控制計量閥,適用于納米級表面清潔和小樣品的激活。
基本型等離子清洗機是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù),在一定真空負壓的狀態(tài)下,以電能將氣體轉(zhuǎn)化為活性*的氣體等離子體,氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面,引起分子結(jié)構(gòu)的改變,從而達到對樣品表面有機污染物進行超清洗,在極短時間內(nèi)有機污染物就被外接真空泵*抽走,其清洗能力可以達到分子級。在一定條件下還能使樣品表面特性發(fā)生改變。基本型等離子清洗機是一款環(huán)保機械設(shè)備,用于電子件的清洗工作,以及物件表面的刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等,功能強大。
基本型等離子清洗機采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。基本型等離子清洗機外接一臺真空泵,工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,短時間的清洗就可以使有機污染物被*地清洗掉,同時污染物被真空泵抽走,其清洗程度達到分子級。