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GSC-1000磁控濺射系統(tǒng)概述： 帶有水冷或者加熱（高可加熱到700度）功能，大到6“旋轉(zhuǎn)平臺，大可支持到2個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 Torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
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