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  • Minilock-Phantom III ICP等離子刻蝕ICP
    Minilock-Phantom III ICP等離子刻蝕ICP

    等離子刻蝕ICP基片通過預(yù)真空室裝入。其避免與工藝室以及任意殘余刻蝕副產(chǎn)品接觸,從而提高了用戶安全性。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下,從而隔絕外部濕氣,防止反應(yīng)室內(nèi)可能發(fā)生的腐蝕。

    更新時(shí)間:2024-06-17型號:Minilock-Phantom III ICP瀏覽量:2231
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