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基本型等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。等離子表面處理機(jī)外接一臺(tái)真空泵，工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被*地清洗掉，同時(shí)污染物被真空泵抽走，其清洗程度達(dá)到分子級(jí)。

Harrick高功率擴(kuò)展型等離子清洗機(jī)是一款多功能的工具，適用于刻蝕有機(jī)薄膜（10--100nm）以及表面活化改性。

高功率等離子清洗機(jī)除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。對(duì)某些有特殊用途的材料，在超清洗過(guò)程中等離子清洗器的輝光放電不但加強(qiáng)了這些材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性，并可消毒和殺菌。

Harrick Plasma 等離子清洗機(jī)真空泵具有悠久歷史的專業(yè)光學(xué)光譜儀器的設(shè)計(jì)和制造。自1969開(kāi)始，Harrick Plasma ，行業(yè)享有盛名。該公司的創(chuàng)始人N. J. Harrick博士，開(kāi)創(chuàng)了內(nèi)反射光譜和成為該技術(shù)的主要開(kāi)發(fā)者。 $nHarrick Plasma 研發(fā)了三十多年前的*臺(tái)臺(tái)式研究等離子體器件?，F(xiàn)在Harrick Plasma 儀器在許多研究實(shí)驗(yàn)室是廣泛應(yīng)用。

氣體流量混合器可用于任何與等離子清洗機(jī)模型結(jié)合，有利于氣體混合，氣體的流量和真空壓力監(jiān)測(cè)更精確的定量控制。