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  • NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng)
    NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng)

    NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng):如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,這些金屬的刻蝕無(wú)法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過(guò)加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通常情況下,樣品表面采用厚膠作為掩模層,刻蝕期間富有能量的離子流會(huì)使得基片和光刻膠過(guò)熱。除非可以找到有效的方式消除熱量,否則光刻膠將變得非常難以去除。 NANO-MASTER技術(shù)已經(jīng)證明了可以把基片溫度控制在50° C以內(nèi)。

    更新時(shí)間:2017-03-03型號(hào):瀏覽量:1208
  • NIE-3500(R)RIBE反應(yīng)離子束刻蝕
    NIE-3500(R)RIBE反應(yīng)離子束刻蝕

    NIE-3500(R)RIBE反應(yīng)離子束刻蝕:可以用于光柵刻蝕,SiO2二氧化硅、Si 硅以及金屬等的深槽刻蝕。此外,還可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。系統(tǒng)可以兼容反應(yīng)氣體以及非反應(yīng)氣體,比如Ar,O2,CF4,Cl2等。

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  • NIE-3500(M)IBE離子束刻蝕
    NIE-3500(M)IBE離子束刻蝕

    NIE-3500(M)IBE離子束刻蝕:是一款手動(dòng)放片/取片,但工藝過(guò)程為全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。

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  • NIE-3500(A)全自動(dòng)IBE離子束刻蝕
    NIE-3500(A)全自動(dòng)IBE離子束刻蝕

    NIE-3500(A)全自動(dòng)IBE離子束刻蝕:是一款自動(dòng)放片/取片,并且工藝過(guò)程為全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。

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  • NIE-3000IBE離子束刻蝕
    NIE-3000IBE離子束刻蝕

    NIE-3000IBE離子束刻蝕:是一款手動(dòng)放片/取片,但工藝過(guò)程為全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制的臺(tái)式離子束刻蝕系統(tǒng),可以用于表面清洗、表面處理、離子銑等。

    更新時(shí)間:2017-03-03型號(hào):瀏覽量:1398
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