發(fā)布時(shí)間： 2020-03-11 點(diǎn)擊次數(shù)： 1104次
高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀一種超真空蒸發(fā)涂布機(jī)，設(shè)計(jì)用于涂覆氧氣敏感的金屬材料，如Ti、Al和Ir等。它還可用于涂覆各種材料。產(chǎn)品有四個(gè)蒸發(fā)加熱器源，同時(shí)在高達(dá)10-6托的高真空下涂覆兩種材料。對(duì)于研究實(shí)驗(yàn)室來說，它是一種具有成本效益的涂膜機(jī)。特別適合場(chǎng)發(fā)射電鏡、透射電鏡制樣及制作無定形碳覆形膜/TEM柵網(wǎng)支持膜，也可為薄膜應(yīng)用等材料領(lǐng)域提供理想的鍍膜平臺(tái)。
高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空緊湊型熱蒸發(fā)鍍膜儀，蒸發(fā)溫度從200℃到1700℃，采用鎢絲籃作為蒸發(fā)源，蒸發(fā)源外套高純氧化鋁坩堝。上蓋裝有可旋轉(zhuǎn)的樣品臺(tái)，能夠有效提高成膜的均勻度。儀器擁有高精度的溫度控制系統(tǒng)，采用循環(huán)加熱方式，能夠穩(wěn)定蒸發(fā)金屬及有機(jī)物。采用不銹鋼高真空腔體設(shè)計(jì)，配高精度分子泵，能夠達(dá)到高真空要求，較高的真空度能夠有效提升蒸發(fā)鍍膜的效率及質(zhì)量。
產(chǎn)品是專為掃描電鏡和電子探針等進(jìn)行試樣制備的設(shè)備?？梢栽诟呒儦鍤獗Ｗo(hù)下進(jìn)行多種離子處理，也可真空蒸碳和真空蒸金屬。用于樣品的外貌觀察，尤其對(duì)成份定量分析更為適宜。采用分子泵系統(tǒng)，特別適于對(duì)真空要求高，真空環(huán)境好的用戶選用。應(yīng)用領(lǐng)域：離子噴涂、離子濺射、離子清洗、真空蒸碳、真空蒸金屬等工作。
高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀特別適合蒸鍍一些對(duì)氧較敏感的金屬膜，如Ti, Al 和Au等，也可蒸鍍各種氧化物材料。此款蒸鍍儀安裝有4個(gè)蒸鍍加熱頭.對(duì)于實(shí)驗(yàn)研究，這是一款鍍膜效果理想并且性價(jià)比較高的實(shí)驗(yàn)設(shè)備。
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